知转果
发明
一种利用掩膜光刻技术一步制备微米级双层结构的方法
已下证
基础信息
类型：
发明
申请号：
2022101664362
申请日期
2022-02-23
发布日期
2024-03-22
专利详情
合计：
￥
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